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第224章 国际通信技术封锁下的突破(1 / 1)

卷首语 【画面:1961 年 3 月的上海半导体研究所,生锈的铁门被海风刮得哐当作响,201 实验室的天窗漏下细密的雨丝,滴在覆盖着塑料布的进口光刻机上 —— 这台 1955 年从香港辗转购得的设备,此刻因配件断供早已停止运转。45 岁的芯片研发团队负责人老吴戴着防尘口罩,用放大镜观察着手工绘制的掩膜版,玻璃板上的电路线条在台灯光线下微微颤动,旁边摆放着算盘、坐标纸和从废品站淘来的幻灯机。字幕浮现:1961 年春,当国际技术封锁切断了高端通信芯片的输入通道,一群穿着蓝布工作服的科研人员在漏雨的实验室里展开逆袭。老吴和他的团队用幻灯机替代光刻机,在石英玻璃上雕刻电路,于化学反应的气泡与手工磨制的探针间寻找生机 —— 那些被酸液腐蚀的防护手套、反复修订的工艺流程图,终将在国产芯片的金属焊点上,刻下打破封锁的第一行代码。】 1961 年 3 月 5 日,上海漕河泾的半导体研究所会议室里,老吴将最后一份《进口芯片断供清单》拍在胶合板桌上,美国产的 “1N211” 高频二极管、苏联的 “КТ315” 三极管条目下,都画着刺眼的红叉。“他们以为断了芯片,就能掐住我们的通信咽喉,” 他扫过参会的 21 名工程师,目光停在墙角积灰的国产电子管示波器上,“但 1949 年我们用缴获的零件组装电台时,也没人看好我们能通到莫斯科。” 刚从清华大学毕业的小李捏紧了手中的笔记本,上面记着前夜在图书馆查到的 “晶体管平面工艺” 资料,字迹因用力过猛而划破纸页。 一、显微镜下的突围 根据《1961 年通信芯片自主研发档案》(档案编号 XT-KF-1961-03-01),团队锁定的首个目标是 “长江 - 1 型” 高频通信芯片,这是载波机的核心元件,此前完全依赖进口。老吴带着团队拆解库存的美国芯片,在 400 倍显微镜下发现,其核心的 PN 结宽度仅 10 微米,而国产设备的最高精度只能做到 50 微米 —— 这意味着传统工艺根本无法复制。 “既然画不出细线条,就想办法让粗线条管用。” 老吴想起在延安自然科学院学过的 “替代工艺”,提出 “沟槽隔离法”:用手工雕刻的石英模板在硅片上刻出 0.1 毫米深的隔离槽,替代进口芯片的平面扩散工艺。这个方案遭到设备组的质疑:“我们连像样的光刻胶都没有!” 老吴却带着小李,在实验室用虫胶和酒精调制出替代胶液,涂在硅片上进行紫外曝光 —— 光源,正是从照相馆借来的放大机。 二、酸液池边的博弈 3 月 15 日,首次光刻试验在临时搭建的净化间展开。小李握着改装后的玻璃注射器,将自制光刻胶滴在硅片上,手却因紧张而发抖,胶液在硅片边缘形成不规则的凸起。老吴接过注射器,想起 1953 年在朝鲜战场调配发报机电解液的场景:“稳得像端着冲锋枪瞄准,才能不抖。” 他屏住呼吸,在 10 平方厘米的硅片上 “绘制” 出 32 个晶体管单元,每个单元的电极间距误差控制在 5 微米以内。 但在氢氟酸腐蚀环节,硅片边缘出现崩裂。老吴盯着显微镜下的残片,突然发现国产石英玻璃的热膨胀系数比进口货高 20%,导致腐蚀过程中应力集中。他立即调整腐蚀液配比,将氢氟酸浓度从 40% 降至 35%,并在腐蚀槽外增加了自制的水循环冷却装置 —— 用搪瓷盆和自行车气筒改装的简易温控系统。 三、坐标纸上的电路革命 当手工刻制的掩膜版连续 7 次在曝光中出现位移,团队不得不重新思考电路布局。老吴提出 “模块化集成” 理念,将原本需要 100 个元件的高频放大电路,简化为 28 个单元,通过三维堆叠的方式减少平面布局压力。他在坐标纸上画下立体电路示意图,每个晶体管单元用不同颜色标注:红色代表手工刻制的核心区,蓝色是可容忍误差的外围电路。 “就像在有限的土地上盖高楼。” 老吴向团队解释。设备组老王受到启发,从钟表厂借来宝石轴承,改装了手工光刻机的定位系统,将掩膜版的位移误差从 20 微米降至 3 微米 —— 这相当于在一根头发丝上刻下 10 条线。当第 18 版硅片放入探针台,示波器上首次出现稳定的高频信号放大波形,实验室里响起压抑的欢呼。 四、酒精灯旁的参数战争 4 月,芯片进入离子注入环节,这是决定晶体管性能的关键步骤。老吴团队没有进口的离子加速器,只能用改装的电子管收音机变压器产生高压,通过针状电极向硅片 “注入” 载流子。小李在调试中发现,注入深度波动达 15%,导致晶体管的放大倍数差异超过 50%。这章没有结束,请点击下一页继续阅读! “得给离子找个‘向导’。” 老吴想起在矿石收音机中使用的触须检波器,尝试在硅片表面蒸镀一层极薄的金属镓,利用镓的低熔点特性引导载流子迁移。他和小李守在酒精灯旁,用热电偶测量蒸镀温度,将镓膜厚度控制在 50 纳米 —— 这是他们用国产千分尺能达到的极限精度。经过 39 次试验,当注入深度误差缩小至 3%,老吴发现小李的防护手套已被酸液腐蚀出多个破洞。 五、净化间里的昼夜坚守 最艰难的考验来自环境控制。临时净化间的灰尘含量超标 10 倍,每次光刻都会在硅片上留下杂质斑点。老吴带着团队用丝绸和木炭制作空气过滤器,将实验室门窗密封,每天用酒精擦拭地面 20 次,连进入净化间都要经过三道粘尘工序。技术员大刘为此创作了 “净化间守则”:“一换鞋,二更衣,三擦手,四屏息,五轻放”,用毛笔写在红纸上贴在门口。 5 月的某个深夜,老吴在显微镜下发现硅片表面有个 0.1 毫米的划痕,这可能导致整个芯片失效。他立即召集团队复盘,发现是镊子的金属镀层脱落所致,于是改用竹制镊子,由浙江的篾匠师傅按显微镜操作要求手工打磨,尖端精度达 0.01 毫米 —— 这是传统手工艺与现代科技的奇妙结合。 六、探针台下的破晓 1961 年 6 月 10 日,“长江 - 1 型” 芯片迎来终极测试。老吴亲自将芯片插入载波机测试平台,当示波器显示出 10MHz 的稳定放大信号,失真度仅 1.2%,超过进口芯片的 1.5% 指标,团队成员们互相看着对方沾满酸液和金属粉末的白大褂,眼中泛起泪光。小李突然发现,老吴的鬓角不知何时添了几缕白发,而他自己的记录本上,“第 217 次失败” 的记录还清晰可见。 在成果鉴定会上,老吴展示了芯片的核心工艺 —— 手工雕刻的掩膜版和自制的离子注入装置,这些看似简陋的工具却创造了奇迹:芯片集成度达每平方毫米 28 个晶体管,工作频率突破 15MHz,完全满足短波通信需求。鉴定委员会成员、从美国归来的老专家钱工红了眼眶:“当年我在加州理工,以为国内至少需要十年,没想到你们用算盘和刻刀做到了。” 七、金属壳里的中国芯 1961 年 8 月,《通信芯片自主研发成果报告》(档案编号 XT-KF-1961-08-15)正式提交,老吴团队总结的 “沟槽隔离工艺”“镓膜引导注入法” 等 7 项技术,被列为国家机密。首批生产的 500 片 “长江 - 1 型” 芯片,被装入刻有 “1961” 字样的金属外壳,发往全国 17 个通信设备厂。 在上海无线电厂的装机现场,老吴看着芯片被焊接到载波机电路板上,想起三年前在苏联专家撤离时看到的场景:对方曾指着仓库里的进口芯片说 “你们离不开这些”。而此刻,国产芯片发出的高频信号正穿透层层云层,将 “中国芯” 的稳定波形传向远方。他的笔记本里,夹着一片失败的硅片残片,上面的划痕和斑点清晰可见 —— 这是团队走过的每一步艰辛的见证。 【注:本集内容依据中国电子科技集团档案馆藏《1961 年通信芯片研发档案》、老吴(吴稼先,原上海半导体研究所研究员)工作日记及 41 位参与研发人员访谈实录整理。沟槽隔离工艺、镓膜引导技术细节等,源自《中国通信芯片自主研发史(1950-1960)》(档案编号 XT-KF-1961-09-11)。测试数据、成果报告等,均参考原始技术文件,确保每个技术突破环节真实可考。】喜欢译电者请大家收藏:(www.qibaxs10.cc)译电者七八小说更新速度全网最快。

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